[发明专利]定位系统、光刻设备、绝对位置确定方法和器件制造方法在审
| 申请号： | 202180078415.9 | 申请日： | 2021-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN116601453A | 公开（公告）日： | 2023-08-15 |
| 发明（设计）人： | M·J·詹森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01B9/02001 | 分类号： | G01B9/02001 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于确定可移动目标相对于参考的绝对位置的定位系统，包括干涉仪系统，该干涉仪系统具有第一光源和第二光源，该第一光源以固定频率发射光，而该第二光源以至少两个不同频率发射光。定位系统被配置为基于目标的移动而将与第二光源的第一频率相关联的相位差曲线和与第二光源的第二频率相关联的相位差曲线确定为与第一光源的固定频率相关联的相位差的函数，并且确定交叉点以确定可移动目标的绝对位置。本发明还涉及一种光刻设备和对应方法。 | ||
| 搜索关键词： | 定位 系统 光刻 设备 绝对 位置 确定 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202180078415.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电子设备用配件
- 下一篇：用于涡轮发动机的空气流矫直级
- 同类专利
- 拉姆齐-伯德离子频率基准仪以及其制造和使用的方法-202280016765.7
- 特拉维斯·奥特里;伊恩·康茨;詹尼弗·埃利斯;丹尼·金;克里斯托弗·罗珀 - HRL实验室有限责任公司
- 2022-01-15 - 2023-10-13 - G01B9/02001
- 在一些变体中，干涉型频率基准仪包括：原子源，其被配置成供应待电离的中性原子；电离器，其被配置成激发这些中性原子以形成电离原子；离子准直器，其被配置成形成这些电离原子的准直束；探针激光器；和多普勒激光器，其被配置成确定这些电离原子的基态布居数，其中该原子源、该电离器和该离子准直器被布置在真空室内。其他变体提供了一种产生稳定频率基准的方法，该方法包括：由原子蒸气形成电离原子；形成电离原子的准直束；用第一和第二探针激光器照射电离原子；使用拉姆齐光谱法将该第一探针和第二探针激光器的频率调节至电离原子的S→D跃迁；以及用另一激光器确定这些电离原子的基态布居数。
- 微型实验台OCT设计-202280012934.X
- 马特·埃弗里特;蒂尔曼·施莫尔 - 卡尔蔡司医疗技术公司;卡尔蔡司医疗技术股份公司
- 2022-01-31 - 2023-09-19 - G01B9/02001
- 本发明涉及一种构建在微型光学实验台或半导体光学实验台上的OCT系统。本OCT系统能够使用自由空间光学器件并且避免使用光纤光学器件。
- 定位系统、光刻设备、绝对位置确定方法和器件制造方法-202180078415.9
- M·J·詹森 - ASML荷兰有限公司
- 2021-10-25 - 2023-08-15 - G01B9/02001
- 本发明提供了一种用于确定可移动目标相对于参考的绝对位置的定位系统，包括干涉仪系统，该干涉仪系统具有第一光源和第二光源，该第一光源以固定频率发射光，而该第二光源以至少两个不同频率发射光。定位系统被配置为基于目标的移动而将与第二光源的第一频率相关联的相位差曲线和与第二光源的第二频率相关联的相位差曲线确定为与第一光源的固定频率相关联的相位差的函数，并且确定交叉点以确定可移动目标的绝对位置。本发明还涉及一种光刻设备和对应方法。
- 专利分类
