[发明专利]光刻机照明均匀性校正装置的校正方法在审
| 申请号： | 202211102741.1 | 申请日： | 2022-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN116243563A | 公开（公告）日： | 2023-06-09 |
| 发明（设计）人： | 程伟林;王振;张学成;任冰强;曾爱军;黄惠杰 | 申请（专利权）人： | 上海镭望光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 秦翠翠 |
| 地址： | 201821 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机照明均匀性校正装置的校正方法，该方法将传统遗传算法应用于光刻机照明均匀性校正装置中，通过校正单元对照明积分均匀性标定、相邻校正单元对光瞳均匀性的标定以及相对校正单元对光瞳均匀性的标定找到校正单元位置信息与照明积分均匀性以及光瞳均匀性的相互关系，并以此为适应度函数，并且通过照明积分均匀性波形校正找到的校正单元位置解能大大缩小传统遗传算法中的随机初解群，使得照明积分均匀性校正优化能更快速、更高效地找到最优解。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 照明 均匀 校正 装置 方法 | ||
【主权项】：
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