[发明专利]一种光催化辅助化学机械抛光用研磨垫及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211391292.7 申请日: 2022-11-08
公开(公告)号: CN115674008A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 秦凤鸣;丁玉龙;赵延军 申请(专利权)人: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
主分类号: B24B37/22 分类号: B24B37/22;B24B37/26;B24D3/28;B24D3/32;B24D18/00;C08G59/18;C08F283/00
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 杨海霞
地址: 450001 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及一种光催化辅助化学机械抛光用研磨垫,所述研磨垫包括研磨层和背衬层;所述研磨层各原料的质量百分比组成为:液态树脂结合剂35~55%,反应性稀释剂0~35%,磨料5~25%,填料5~30%,光催化剂5~20%,固化剂5~30%或引发剂0.5~5%,其他助剂0.5~5%。该研磨垫制备工艺简单,在紫外光照射下加工SiC晶片时,具有材料去除率高、工件表面粗糙度小、磨粒及光催化剂利用率高、对环境污染少等优点。
搜索关键词: 一种 光催化 辅助 化学 机械抛光 研磨 及其 制备 方法
【主权项】:
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