[发明专利]一种光催化辅助化学机械抛光用研磨垫及其制备方法在审
申请号: | 202211391292.7 | 申请日: | 2022-11-08 |
公开(公告)号: | CN115674008A | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 秦凤鸣;丁玉龙;赵延军 | 申请(专利权)人: | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 |
主分类号: | B24B37/22 | 分类号: | B24B37/22;B24B37/26;B24D3/28;B24D3/32;B24D18/00;C08G59/18;C08F283/00 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 杨海霞 |
地址: | 450001 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种光催化辅助化学机械抛光用研磨垫,所述研磨垫包括研磨层和背衬层;所述研磨层各原料的质量百分比组成为:液态树脂结合剂35~55%,反应性稀释剂0~35%,磨料5~25%,填料5~30%,光催化剂5~20%,固化剂5~30%或引发剂0.5~5%,其他助剂0.5~5%。该研磨垫制备工艺简单,在紫外光照射下加工SiC晶片时,具有材料去除率高、工件表面粗糙度小、磨粒及光催化剂利用率高、对环境污染少等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 光催化 辅助 化学 机械抛光 研磨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑州磨料磨具磨削研究所有限公司,未经郑州磨料磨具磨削研究所有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211391292.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。