[发明专利]设置基线和会聚距离的光场相机系统和方法在审
| 申请号： | 202280013927.1 | 申请日： | 2022-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN116830570A | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | A·Z·巴尼 | 申请（专利权）人： | 镭亚股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N13/271 | 分类号： | H04N13/271 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 于小宁 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种设置多个相机套件基线和会聚距离的光场相机系统和方法采用采样点深度来确定和设置关于三维(3D)场景的值。通过确定表示多个相机套件与多个相机套件的视场内的3D场景中的多个采样点之间的距离的多个采样点深度来设置多个相机套件的基线和会聚距离。会聚距离被设置为多个采样点深度的平均采样点深度。然后将基线设置为多个采样点深度中的最小采样点深度与会聚距离之间的差值的倒数。光场相机系统包括多个相机套件，该多个相机套件包括多个相机。 | ||
| 搜索关键词： | 设置 基线 会聚 距离 相机 系统 方法 | ||
【主权项】：
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