[发明专利]测定系统校准系统和方法在审

专利信息
申请号: 202280018089.7 申请日: 2022-01-10
公开(公告)号: CN116940989A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: J·乔尔恩;G·西格尔 申请(专利权)人: 中尺度技术有限责任公司
主分类号: G16C20/70 分类号: G16C20/70
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 秦晨
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 提供了用于校准用于分析物的样品测定的系统和方法。所述系统和方法是基于校准曲线拟合,所述校准曲线拟合使用具有经修改的希尔斜率的经修改的四参数逻辑回归拟合方程(经修改的4PL),所述经修改的希尔斜率取决于分析物的数量的倒数的函数或取决于所述分析物的数量的倒数的自然对数的函数。
搜索关键词: 测定 系统 校准 方法
【主权项】:
暂无信息
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