[发明专利]超晶格薄膜、非线性光学器件和设备在审
| 申请号： | 202310653210.X | 申请日： | 2023-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN116819846A | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 李千;王思旭 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G02F1/37 | 分类号： | G02F1/37;G02F1/35 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 魏润洁 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请公开了一种超晶格薄膜、非线性光学器件和设备。超晶格薄膜包括多个介电层和至少一层铁电层，铁电层和介电层沿第一方向交替叠设，铁电层内具有第一极化畴，在外部电场作用下第一极化畴能够转向为第二极化畴；在第二极化畴的作用下，射入超晶格薄膜的基频光波能够转换为与基频光波对应的二次谐波射出超晶格薄膜。本申请提供的超晶格薄膜可实现高二次谐波调制深度。 | ||
| 搜索关键词： | 晶格 薄膜 非线性 光学 器件 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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