[发明专利]一种垂直双极性结型晶体管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202310674064.9 申请日: 2023-06-08
公开(公告)号: CN116403902B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 刘尧;刘海彬;史林森;陈达伟;江艳;刘森 申请(专利权)人: 微龛(广州)半导体有限公司
主分类号: H01L21/331 分类号: H01L21/331;H01L29/732;H01L29/06
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 刘星
地址: 510000 广东省广州市高新技术*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种垂直型双极性结型晶体管及其制作方法,该方法包括以下步骤:提供一基底,基底包括自下而上依次层叠的衬底层、第一绝缘层、中间层、第二绝缘层及器件层,将器件层转变为绝缘介质层,形成第一、第二沟槽于绝缘介质层中,形成第三、第四沟槽于第二绝缘层中,形成第一、第二隔离带于中间层中,掺杂得到中间层功能区,形成第一、第二集电区,形成发射区及基区。本发明的制作方法起始于双绝缘层基底,例如可以是双绝缘层上硅晶圆,通过合理分布基区、集电区及发射区,解决了全耗尽SOI垂直双极性结型晶体管集成的问题。本发明的晶体管中采用双层绝缘层的隔离,使得器件可以稳定工作,不会影响别的器件,同时可以实现很好的双极放大。
搜索关键词: 一种 垂直 极性 晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
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