[发明专利]一种修饰铁电薄膜表面的方法及得到的铁电薄膜在审
申请号: | 202310897511.7 | 申请日: | 2023-07-20 |
公开(公告)号: | CN116940229A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 田瑜;曾召利;张金星 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军空军军医大学 |
主分类号: | H10N97/00 | 分类号: | H10N97/00;H10B53/30 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 马贵香 |
地址: | 710032 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: |
本发明提供一种修饰铁电薄膜表面的方法及得到的铁电薄膜,所述方法包括:在铁电薄膜表面修饰正离子或负离子,以在铁电薄膜表面构建与铁电薄膜的初始极化方向相反的表面电场。本发明在初始极化向上铁电薄膜表面修饰H |
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搜索关键词: | 一种 修饰 薄膜 表面 方法 得到 | ||
【主权项】:
暂无信息
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