[发明专利]一种通过磁场辅助改善复合镀层中颗粒分布均匀性的方法在审
| 申请号： | 202311057130.4 | 申请日： | 2023-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN116876050A | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 王帅星;陈翀宇;卓健飞;刘亚雄;何雨波;田礼熙;邵志松;杜楠 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学;中国航发长江动力有限公司 |
| 主分类号： | C25D5/00 | 分类号： | C25D5/00;C25D5/34;C25D21/14;C25D21/12 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 330063 江*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种通过磁场辅助改善复合镀层中颗粒分布均匀性的方法，属于电化学沉积技术领域。本发明提供的方法通过施加磁场减小复合镀液中不溶性颗粒和金属离子的扩散速率差异，从而提高镀层的组分均匀性；游离的金属离子和吸附在颗粒上的金属离子受搅拌作用以一定的速度运动，在磁场影响下产生洛伦磁力，使颗粒在复合镀液中运动更为活跃，金属离子活跃的运动促使其在镀液中产生一个个小涡流，使复合镀液中颗粒的均匀性和分散性进一步提高，从而改善电沉积过程中复合镀层中颗粒分布均匀性问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 磁场 辅助 改善 复合 镀层 颗粒 分布 均匀 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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