[实用新型]一种1064nm二维金属介质填充光栅

摘要

本实用新型公开了一种1064nm二维金属介质填充光栅，由下至上依次包括基底、金属层、光栅层、填充层以及介质层，金属层通过镀膜固定于基底上，光栅层固定于金属层上，填充层填充覆盖于光栅层的刻痕处以及表面，介质层覆盖于填充层表面，光栅层的周期为2000nm，光栅层深度为0.56‑0.65μm，填充层材质为SIO2，介质层包括SIO2材料层与TA2O5材料层，SIO2材料层位于TA2O5材料层远离填充层的一侧，SIO2材料层厚度210nm，TA2O5材料层厚度125nm，光栅层材料为TA2O5、TIO2和SI3N4中的一种。本实用新型在装配和使用过程中，可对光栅表面进行擦拭清洁而不破坏光栅，且可使光栅衍射效率可高于25%。