【摘要】
本实用新型涉及一种LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统,具体地讲是涉及一种防止LPCVD工艺腔室之间交叉污染以及能够吹扫ZnO颗粒的气体吹扫系统。该系统包括加热腔、冷却腔和多个用于沉积BZO玻璃的工艺腔,各个腔室之间螺纹连接,还包括设置在工艺腔内,紧邻两工艺腔对接腔壁处的气体吹扫装置。该系统结构简单,成本低廉,通过气体吹扫切断工艺腔室之间的气场干扰,保证温度场和气场均匀性,最终保证BZO薄膜的均匀性,同时能够将玻璃在传输和工艺过程中洒落到BZO薄膜表面的ZnO的粉尘吹走,保证ZnO薄膜在下一个工艺腔室镀膜之前有一个洁净的表面,保证ZnO薄膜的质量。
【附图】
【权利说明书】
1. 一种LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统,包括加热腔、冷却腔和多个用于沉积BZO玻璃的工艺腔,各个腔室之间螺纹连接,其特征在于还包括设置在工艺腔内,紧邻两工艺腔对接腔壁处的气体吹扫装置。
2. 根据权利要求1所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统,其特征在于所述气体吹扫装置包括用于吹扫的分气装置本体、吹扫气体进气孔、分气装置中用于匀气的分气口和固定分气装置的螺丝;其中,进气孔位于工艺腔侧壁紧邻两工艺腔对接腔壁处,分气装置本体一端与进气孔连接,分气装置本体上壁通过螺丝与工艺腔腔盖固定,分气装置本体下方连接多个分气口。
3. 根据权利要求2所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统,其特征在于所述分气口呈上粗下细状。
4. 根据权利要求2所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统,其特征在于所述分气口密集分布,且紧贴两工艺腔间传输玻璃的缝隙。
5. 根据权利要求1所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统,其特征在于所述吹扫系统还连接有控制气体进气和流量大小的装置。
6. 根据权利要求5所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统,其特征在于所述吹扫系统还连接有气动阀和质量流量计。
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