[发明专利]一种可插入式气相团簇软沉积方法有效
申请号: | 201911273496.9 | 申请日: | 2019-12-12 |
公开(公告)号: | CN110965041B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 骆智训;黄奔奔;杨梦周 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/54;C23C16/46;C23C16/455;G01N27/62 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 孙楠 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种可插入式气相团簇软沉积装置和方法,包括:依次连接的软沉积腔和样品腔,以及与样品腔连通的真空模块和配气模块;软沉积腔内设质谱仪,质谱仪用于对气相团簇进行质谱分析;样品腔与软沉积腔通过设置在二者连接处的插板阀分割或连通,样品腔内设有能够往复运动的样品台,样品台上设有沉积基底;真空模块对软沉积腔和样品腔抽真空;配气模块向经过抽真空的软沉积腔和样品腔内通入惰性气体。本装置将气相团簇的质谱分析装置与软沉积实验装置结合,能够在进行质谱实验过程中方便地使用软沉积功能,并且在软沉积过程中实时监控气相团簇的沉积量,保证了沉积的气相团簇足够进行后续实验。 | ||
搜索关键词: | 一种 插入 式气相团簇软 沉积 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的