[发明专利]一种间距可控的化学机械研磨头

摘要

本发明公开了一种间距可控的化学机械研磨头，研磨支撑座的底部升降设置有圆环状的研磨保持环；研磨保持环与压头同轴设置并且压头位于研磨保持环内；研磨保持环的内径大于圆晶的直径；限位底环与研磨保持环同轴设置；限位底环位于研磨保持环的下侧并且两者之间的间隙可调设置；限位底环的内径大于研磨垫的直径；研磨平台的上端面上成型有同轴设置的供限位底环插入的限位环槽；限位环槽内设置有用于限制限位底环的限位装置；限位底环相对于研磨平台旋转设置。本发明工作时，研磨保持环和研磨垫之间的间隙保持在一定的间距，这样限位底环不会被研磨垫磨损同时有利于研磨液和研磨产物排出，提高研磨质量。