[发明专利]一种具有粗糙表面的硅片的制备方法以及硅片有效
申请号: | 202011053233.X | 申请日: | 2020-09-29 |
公开(公告)号: | CN112158796B | 公开(公告)日: | 2023-10-03 |
发明(设计)人: | 吴伟昌;吕丽英;黎家健 | 申请(专利权)人: | 瑞声声学科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;B81B7/02 |
代理公司: | 深圳三用知识产权代理事务所(普通合伙) 44859 | 代理人: | 金晶 |
地址: | 518057 广东省深圳市南山区高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明实施例提供了一种具有粗糙表面的硅片的制备方法以及硅片,解决了现有技术中硅片的光滑表面与其他膜层的表面接近时,容易产生粘滞力的技术问题。本发明实施例提供的一种具有粗糙表面的硅片的制备方法,在经过平面抛光的硅的表面上沉积一层多孔氧化物膜层,然后采用XeF |
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搜索关键词: | 一种 具有 粗糙 表面 硅片 制备 方法 以及 | ||
【主权项】:
暂无信息
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