[发明专利]计测装置、计测方法和真空处理装置在审
| 申请号： | 202011351752.4 | 申请日： | 2020-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112928009A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 泽地淳;曾根一朗;西嶋拓哉;佐藤优 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供不进行大气开放而高精度地计测处理容器内的状态的计测装置、计测方法和真空处理装置。计测装置包括：壳体，其形成有具有与真空处理装置的第二出入口对应的尺寸的开口部，能够在第二出入口气密地安装开口部，其中，真空处理装置在处理容器设置有用于送入送出基片的第一出入口和与第一出入口不同的第二出入口；对壳体内部进行减压的减压机构；以及收纳于壳体内部的计测机构，其在由减压机构对壳体内部进行了减压的状态下，经由开口部计测处理容器内的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 真空 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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