[发明专利]一种硅片背表面喷砂装置及工艺在审
| 申请号： | 202211408641.1 | 申请日： | 2022-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN115922577A | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 郑宇;王新;刘义;韩萍;何丙才;李亚光;纪新鹏;姜伟;张亮;靳慧洁 | 申请（专利权）人： | 山东有研半导体材料有限公司;有研半导体硅材料股份公司 |
| 主分类号： | B24C3/12 | 分类号： | B24C3/12;B24C5/02;B24C7/00;B24C9/00 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青 |
| 地址： | 253012 山东省德州市经济技术开发区袁桥*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片背表面喷砂装置及工艺。该喷砂装置包括盖板式喷枪上支架、设置在该喷枪上支架下方的壳体以及组装在该壳体中的多个陶瓷载具、内齿圈、外齿圈；内齿圈为柱状，其外周面具有内传动齿；外齿圈为圆环形，其外周面光滑，内周面具有外传动齿；多个陶瓷载具均匀分布在内齿圈与外齿圈之间，各陶瓷载具的外周分别与内齿圈外周面上的内传动齿和外齿圈内周面上的外传动齿啮合，内传动齿和外传动齿带动各陶瓷载具运转。在喷砂时，将硅片放置于陶瓷载具的硅片承载孔中，设定内齿圈的转向为正，转速为30‑65rpm；外齿圈的转向为负，转速为25‑60rpm；喷砂加工时间为30s‑120s；调整内内齿圈的转速、转向，使硅片在喷砂作业范围内的运行轨迹为行星运动。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 表面 喷砂 装置 工艺 | ||
【主权项】：
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