[发明专利]一种氧气氛无压烧结法制备ITO靶材的方法在审
申请号: | 202310317671.X | 申请日: | 2023-03-29 |
公开(公告)号: | CN116573930A | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 孔令兵;刘凯歌;周曼;田硕;张玲;翟剑庞;项炳锡 | 申请(专利权)人: | 深圳技术大学 |
主分类号: | C04B35/453 | 分类号: | C04B35/453;C04B35/622;C04B35/64;C23C14/34 |
代理公司: | 北京中睿智恒知识产权代理事务所(普通合伙) 16025 | 代理人: | 侯文峰 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种氧气氛无压烧结法制备ITO靶材的方法,具体包括以下步骤:S1、ITO靶材粉料的制备,S2、ITO靶材初料的制备,S3、压制处理,S4、脱脂处理,S5、分段烧结,本发明涉及陶瓷材料合成技术领域。该氧气氛无压烧结法制备ITO靶材的方法,可实现在对ITO靶材原料预压制处理时进行更加全面的压制和脱脂处理,得到品质更佳的素坯,很好的达到了既提高ITO靶材的品质又节省成本的目的,使预压制和脱脂处理更加彻底,避免导致制得的ITO靶材在后期再进行分段烧结时,需要花费更多的加热时间来提高ITO靶材的致密性的情况发生,省时省力,大大降低了ITO靶材中杂质含量,确保了ITO靶材的产品品质,从而对ITO靶材的批量生产十分有益。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧气 氛无压 烧结 法制 ito 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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