[发明专利]一种电子束调节方法和电子发射装置在审

专利信息
申请号: 202310540610.X 申请日: 2023-05-12
公开(公告)号: CN116564771A 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 戴庆;李振军;李元勋;李驰 申请(专利权)人: 广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院
主分类号: H01J3/14 分类号: H01J3/14;H01J1/30
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 刘锋
地址: 510700 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供一种电子束调节方法和电子发射装置,涉及电子发射技术领域,通过改变导电聚集极的第一通孔形状来改变电场在导电聚焦极内部的分布情况,即以第一通孔形状为非任意角度旋转对称(以第一通孔的中轴线为旋转中心,当第一通孔的径向截面形状旋转任意角度均与原径向截面重合时,即为任意角度旋转对称)的设计与电场的不对称分布做抵消,优化电场的分布,单独的从某一方向对电子束的运行轨迹进行约束,而其他方向基本不变,从而实现分轴独立调节,使得电子发射装置的抗环境干扰能力强。
搜索关键词: 一种 电子束 调节 方法 电子 发射 装置
【主权项】:
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