[发明专利]一种基于表面等离激元的高阶拓扑光学器件在审
申请号: | 202310917756.1 | 申请日: | 2023-07-25 |
公开(公告)号: | CN116931141A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 陶金;吴冕;曾永全 | 申请(专利权)人: | 武汉邮电科学研究院有限公司 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02B1/00 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 陈桂扬 |
地址: | 430074 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本申请涉及一种基于表面等离激元的高阶拓扑光学器件,其包括金属衬底以及在所述金属衬底上形成的纳米单元阵列;所述纳米单元阵列包括若干个纳米结构单元,所述纳米结构单元包括多个表面等离激元谐振环;所述纳米结构单元内相邻的两个表面等离激元谐振环的间距为L1,相邻两个所述纳米结构单元中,其中一个所述纳米结构单元的表面等离激元谐振环与另一个所述纳米结构单元的表面等离激元谐振环的最小间距为L2,L1>L2。本申请可以解决相关技术中支持表面等离子激元波的材料和精细结构不可避免的会引入杂质或者结构缺陷,会在全局上对表面等离子波的传输性能造成影响的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 表面 离激元 拓扑 光学 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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