[发明专利]涂布方法和涂布装置无效
| 申请号： | 200910209319.4 | 申请日： | 2006-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN101685257A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 藤田直纪 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙 淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 方法 装置 | ||
【说明书】：
本案是申请日为2006年5月30日、申请号为200610085007.3、发明名称为 涂布方法和涂布装置的专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种在被处理基板上涂布液体的技术，特别涉及一种 以无旋转方式在基板上形成涂布膜的涂布方法和涂布装置。
背景技术
最近，在平板显示器(FPD)制造过程的照相平版印刷 (photolithography)工序中，作为有利于被处理基板(如玻璃基板) 大型化的抗蚀剂(resist)涂布法，普及有：使长型抗蚀剂喷嘴一边从 其狭缝状喷出口呈带状喷出抗蚀剂液，一边对于基板作相对移动或扫 描，不需要旋转运动，在基板上涂布抗蚀剂液形成所期望的膜厚的无 旋转方式(例如参照专利文献1)。
即使在采用无旋转方式(又称狭缝式)的抗蚀剂工艺中，也进行 清洗处理和粘附处理作为前处理，在清洗处理中，基板表面的粒子、 有机物等污染物被除去。在粘附处理中，为了提高基板与抗蚀剂膜的 密合性，在基板上涂布蒸气状的HMDS。另外，抗蚀剂涂布处理是对 粘附处理后的无图案的基板进行的。
[专利文献1]日本专利特開平10-156255
但是，现有的无旋转方式，对于形成在基板上的抗蚀剂涂布膜的 膜厚控制方面，留有改善的余地，特别是提高面内均匀性成为课题。 具体的，存在涂布开始部的涂布膜的膜厚凹陷，另一方面涂布中间部 的涂布膜的膜厚在左右两端部不能控制，涂布终端部的涂布膜容易显 著隆起的问题。
具体的，根据现有的无旋转方式，如图22所示的平面视图案，在 基板G上形成抗蚀剂液的涂布膜200。这里，在涂布开始部A，如图 23(A)所示，缩小长型抗蚀剂喷嘴202与基板G的间隙DA，进行抗 蚀剂液的前置喷出或着液，但是从抗蚀剂喷嘴202的狭缝状喷出口202a 喷出的抗蚀剂液，在基板G上容易向外侧(特别是喷嘴长度方向外侧) 过度扩展。结果，如图24所示，在涂布开始部A(特别是其左右隅角 部)，抗蚀剂涂布膜200的膜厚向外侧下垂而凹陷。
涂布扫描中，如图23(B)所示，使抗蚀剂喷嘴202与基板G的 间隙DB比涂布开始时变大，在其背面下端部形成弯液面，同时在基板 G上方移动，因为刚喷到基板G上的抗蚀剂液被喷嘴202拖曳，如图 25所示，抗蚀剂液容易在涂布中间部B的左右两端部向内侧聚集而形 成隆起204。扫描速度越快，或者间隙DB越大，该隆起204就有如虚 线204′所示变大的倾向。
而且，抗蚀剂喷嘴202结束喷出抗蚀剂液时，由于向上方移动、 退避，从其狭缝状喷出口202a的两端开始抗蚀剂液的液切割，所以在 涂布终端部C(特别是其左右隅角部)抗蚀剂液向内侧的聚集更加严 重，更容易形成大的隆起。
关于上述的抗蚀剂涂布膜的膜厚变化或不均匀性，与抗蚀剂工艺 的状况、条件相对应，使抗蚀剂喷嘴202的喷出构造更加合适，可以 降低到某种程度。可是，这种方法没有普遍性，每次变化状况(如膜 厚)、条件(如抗蚀剂的种类)，都必须更换抗蚀剂喷嘴的硬件，在成 本、使用等方面存在很大实用性上的不足。
并且，现有的无旋转方式，如图26所示，在涂布开始位置A前置 喷出时，抗蚀剂喷嘴202与基板G间的间隙无法完全被抗蚀剂液填满， 经常产生间隙(着液不良处)206。在存在该着液不良处206的某种状 态下开始涂布扫描，如图27所示，在抗蚀剂喷嘴202背面下部形成的 弯液面的顶部线(湿线：wet line)在着液不良处206凹陷，容易在与 其位置对应的抗蚀剂涂布膜200的位置上产生沿扫描方向的条状涂布 不匀208。
发明内容
本发明鉴于现有技术的问题点，其目的提供一种使涂布膜的膜厚 控制、特别是周缘部的膜厚均匀化容易进行的无旋转方式的涂布方法 和涂布装置。
本发明的另一目的是提供在涂布开始位置，在喷嘴和被处理基板 间的间隙中，确实无空隙地填满处理液，防止涂布不匀的无旋转方式 的涂布方法和涂布装置。
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- 本发明提供了一种改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法，涉及光刻工艺技术领域，本发明提供的改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法包括对基底进行烘烤；将烘烤后的基底进行匀胶处理；对匀胶后的基底进行曝光处理；对曝光后的基底进行曝光后烘；对曝光后烘的基底进行静置冷却；对基底进行显影。本发明提供的改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法无需使用基底表面增粘剂，通过匀胶前对基底的烘烤，以及曝光后的烘烤以及烘烤后的静置冷却，能够有效的提高了基底与光刻胶之间的粘附度，满足工艺要求，无需额外增加设备模组。
- 光刻胶涂布装置-201910399895.3
- 刘庆超;徐丽芝;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 - 德淮半导体有限公司
- 2019-05-14 - 2019-08-16 - G03F7/16
- 一种光刻胶涂布装置，包括腔底座、腔身、腔顶盖，所述腔底座、所述腔身以及所述腔顶盖构成涂布腔室；涂布溅射区，位于所述腔顶盖内壁，且所述涂布溅射区的材料为亲水性润湿材料。亲水性材质可以减小液体与所述亲水性材质表面的接触角，从而使液体不易沾粘在所述涂布溅射区，增大了液体流动性；当进行涂布工艺时，由于离心力而飞出混合液体到达所述涂布溅射区更容易流动排出，避免产生堆积，减少反溅，从而提高所述涂布装置的工作效率。
- 用于光固化材料的手动控制施用的施用装置-201480046699.3
- T·欧夫曼 - A·维林
- 2014-07-16 - 2019-08-16 - G03F7/16
- 一种施用装置(1)，用于以手动控制的方式施用光固化材料，包括壳体部分(3)；其中，壳体部分(3)包括至少一个第一端部区域(31)和位于其相反位置的第二端部区域(33)；接收设备(5)，用于以可拆卸方式接收装有光固化材料的施用设备(100)，其中，施用设备(100)包括一个出口孔，光固化材料可以从该出口孔排出；用于固化光固化材料的发光装置，特别是LED灯(21)及/或闪光设备；其中，所述接收设备(5)被设计成使得将施用设备(100)连接至接收设备(5)之后，施用设备(100)的出口孔面对第一端部区域(31)；其中，发光装置被布置在壳体部分(3)的第一端部区域(31)之内或上，以在其被启动时，能够提供朝或在壳体(3)的第一端部区域(31)方向的光。
- 光刻胶涂布装置-201920167999.7
- 潘昌雷 - 东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭光电科技股份有限公司
- 2019-01-30 - 2019-08-09 - G03F7/16
- 本实用新型公开了一种光刻胶涂布装置，所述光刻胶涂布装置包括支撑平台以及旋转壳体；所述支撑平台呈水平设置并配置为能够绕自身轴线旋转以带动放置在其上的玻璃基板旋转；所述旋转壳体包括水平设置的旋转板以及沿周向延伸设置在所述旋转板的边沿的止挡壁，所述旋转板设置在所述支撑平台下方并能够绕自身轴线转动，所述止挡壁的上端的水平高度高于所述支撑平台的水平高度，所述止挡壁与所述旋转板的连接位置处设置有回收口，所述回收口的下方设置有与所述回收口连通的回收容器。本实用新型能够及时将使用过的光刻胶进行回收，从而提高了光刻胶的利用率，降低了彩色滤光膜的制作成本。
- 高均匀性圆筒镍网涂胶装置及其涂胶工艺-201910257494.4
- 孙科;李洪;孟晓峰;赵轶君;张胜权 - 江苏双宇镍业高科有限公司
- 2019-04-01 - 2019-08-02 - G03F7/16
- 本发明涉及的一种高均匀性圆筒镍网涂胶装置及其涂胶工艺，它包括感光涂胶机、高压冲洗台、高温烘箱、浸泡水槽和圆网装闷头机；所述感光涂胶机包括机架、胶桶、涂胶辊、曝光灯和操作箱，所述机架的一侧连接有操作箱，所述机架的顶部设有涂胶双杆，所述涂胶双杆上滑动设置有胶桶，所述涂胶双杆的下方设置有涂胶辊，所述涂胶辊的下方设置有移动轨道，所述移动轨道上滑动设置有曝光灯；所述高压冲洗台包括台架和支撑横杆，所述圆网装闷头机包括机体、卡盘架、中托架和卡盘。本发明涂胶均匀，使用感光印花法，涂胶后马上曝光显影，随之用水洗溶解光敏剂，使得印花部分留在圆网上，环保的同时节约资源。
- 改善光阻附着力的方法-201910275747.0
- 彭钊 - 深圳市华星光电技术有限公司
- 2019-04-08 - 2019-08-02 - G03F7/16
- 本发明公开一种改善光阻附着力的方法，包括以下步骤：S10提供一玻璃基板；以及S20提供一烷氧基硅烷至所述玻璃基板，使所述烷氧基硅烷与所述玻璃玻璃基板进行化学反应，得到一表面带有疏水基团的玻璃基板以及一水解产物。利用本发明之改善光阻附着力的方法，使基板能有效吸附有机光阻，且过程中产物易于回收利用。
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