[发明专利]一种集成电路封装用镀钯铜线的加工方法在审

专利信息
申请号: 201711492361.2 申请日: 2017-12-30
公开(公告)号: CN108118182A 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 潘加明 申请(专利权)人: 安徽晋源铜业有限公司
主分类号: C22C9/00 分类号: C22C9/00;C22C1/02;C22F1/08;C23C18/40;H01L21/56;H01L23/31
代理公司: 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 代理人: 段晓微;叶美琴
地址: 239200 安徽省滁*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提出了一种集成电路封装用镀钯铜线的加工方法,包括如下步骤:按重量百分含量将La和Ag,余量为纯度≥99.99%的铜混合,加入氮气保护下,的高频炉中熔炼,经凝固制得铜杆;将铜杆在氮氢共混气体保护下,经拉拔、退火制得铜线;将铜线通过温度为55‑65℃,PH为4.6‑5.6的镀钯液中化学镀钯制得镀钯铜线;将镀钯铜线经去离子水清洗,干燥得到所述集成电路封装用镀钯铜线。本发明将铜线在酸性环境下化学镀钯,一方面解决了电镀工艺繁琐、成本高及污染大的问题;另一方面改善了碱性环境化学镀钯稳定性差、络合剂种类繁多和镀层性能较差的缺点,制得镀钯铜线的耐氧化性能、耐腐蚀性能及可焊性能优异。
搜索关键词: 铜线 镀钯 集成电路封装 化学镀钯 铜杆 退火 耐腐蚀性能 耐氧化性能 氮气保护 电镀工艺 碱性环境 可焊性能 气体保护 去离子水 酸性环境 熔炼 镀钯液 高频炉 络合剂 氮氢 镀层 共混 拉拔 加工 凝固 清洗 污染
【主权项】:
一种集成电路封装用镀钯铜线的加工方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、按重量百分含量将La 0.008‑0.01wt%和Ag 0.01‑0.02wt%,余量为纯度≥99.99%的铜混合,加入氮气保护下,温度为1310‑1350℃的高频炉中熔炼,经凝固制得铜杆;S2、将S1铜杆在氮氢共混气体保护下,经拉拔和退火处理制得铜线;S3、将S2铜线在温度为55‑65℃,PH为4.6‑5.6的镀钯液中化学镀钯制得镀钯铜线;S4、将S3镀钯铜线经去离子水清洗,干燥制得集成电路封装用镀钯铜线。
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