[发明专利]无序工程半导体纳米材料制备系统有效
| 申请号： | 201910019341.6 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN109609915B | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 张晓军;刘雷 | 申请（专利权）人： | 张晓军;刘雷 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 | 代理人： | 陈志超;黄家豪 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种无序工程半导体纳米材料制备系统，包括：一激光发生装置，其用于发出预设规格的激光；一分光机构，其用于将所述激光分光以形成N束子激光，其中N为大于1的自然数；N个透镜，所述N个透镜分别位于所述N束子激光的光路上，以分别用于对对应的子激光进行聚光；N个靶材座，所述N个靶材座沿着预设球面分布且分别位于所述N束子激光的光路上，所述N个靶材座用于承载不同的靶材，每一所述透镜用于将对应子激光聚焦到对应的靶材座并将对应靶材座上的靶材蒸发形成辉羽；一基片结构，其位于所述N个靶材座上方，所述基片结构用于供该N道辉羽相互作用后在其上沉积形成纳米颗粒层。 | ||
| 搜索关键词： | 无序 工程 半导体 纳米 材料 制备 系统 | ||
【主权项】：
1.一种无序工程半导体纳米材料制备系统，其特征在于，包括：一激光发生装置，其用于发出预设规格的激光；一分光机构，其用于将所述激光分光以形成N束子激光，其中N为大于1的自然数；N个透镜，所述N个透镜分别位于所述N束子激光的光路上，以分别用于对对应的子激光进行聚光；N个靶材座，所述N个靶材座沿着预设球面分布且分别位于所述N束子激光的光路上，所述N个靶材座用于承载不同的靶材，每一所述透镜用于将对应子激光聚焦到对应的靶材座并将对应靶材座上的靶材蒸发形成辉羽；一基片结构，其位于所述N个靶材座上方，所述基片结构用于供该N道辉羽相互作用后在其上沉积形成纳米颗粒层。
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