[发明专利]一种修正光学平坦度探测结果的方法有效
| 申请号： | 202010106038.2 | 申请日： | 2020-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN111176078B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 卞玉洋;官锡俊;郭晓波;张聪 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/30 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种修正光学平坦度探测结果的方法，根据版图计算出曝光单元内图形密度分布；由光学平坦度探测仪探测得到曝光单元内平坦度的分布；根据平坦度的分布和图形密度分布建立平坦度和图形密度的数学关系；将由图形密度引起的平坦度变化在后续曝光中的光学平坦度探测仪得到的数据中进行补偿，得到曝光单元真实的平坦度。本发明根据图形设计版图计算得到曝光单元不同区域的图形密度，再利用图形密度图和光学探测器得到的平坦度数据进行比对，把由于图形密度差异造成的平坦度差异进行补偿，可实现对光学平坦度探测方法的修正。该方法比单纯利用光学平坦度探测法得到的结果更精确，比气体补偿法更容易操作，比较容易扩展到现有光刻机台。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 修正 光学 平坦 探测 结果 方法 | ||
【主权项】：
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