[发明专利]一种电磁各向异性噪声抑制膜的制备方法及其产品有效
| 申请号： | 201710639454.7 | 申请日： | 2017-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN107415376B | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 王鲜;杨晶;祁冬;龚荣洲;聂彦 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | B32B27/00 | 分类号： | B32B27/00;B32B37/06;C08J7/04;C09D109/02;C09D175/04;C09D7/61 |
| 代理公司： | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人： | 赵伟 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了电磁各向异性噪声抑制膜的制备方法及其产品，其制备方法包括：(1)将丁腈橡胶溶于二甲苯溶剂，或者将聚氨酯树脂溶于二甲基甲酰胺溶剂，充分溶解制得粘结剂溶液；(2)将纤维吸收剂与粘结剂溶液混合并搅拌至纤维均匀分散，制得流延浆料；(3)以聚对苯二甲酸乙二醇酯膜作为基底，在剪切力作用下将流延浆料均匀涂覆在基底上，形成流延湿膜；在流延湿膜的流延方向上施加静态磁场进行辅助纤维取向，直至粘结剂溶剂挥发干，制得流延膜；(4)将多层流延膜进行叠层热压，获得电磁各向异性噪声抑制膜；所制备的电磁各向异性噪声抑制膜可在传输线垂直于纤维轴向的方向上实现电磁噪声抑制性能的大幅增强。 | ||
| 搜索关键词： | 噪声抑制 制备 流延 粘结剂溶液 流延浆料 流延膜 基底 湿膜 聚对苯二甲酸乙二醇酯膜 纤维 二甲基甲酰胺溶剂 传输线 电磁噪声抑制 二甲苯溶剂 剪切力作用 聚氨酯树脂 粘结剂溶剂 丁腈橡胶 辅助纤维 静态磁场 均匀涂覆 纤维轴向 吸收剂 叠层 多层 挥发 取向 热压 溶解 垂直 施加 | ||
【主权项】：
1.一种电磁各向异性噪声抑制膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）将丁腈橡胶溶于二甲苯溶剂，充分溶解制得粘结剂溶液；或者将聚氨酯树脂溶于二甲基甲酰胺溶剂，充分溶解制得粘结剂溶液；（2）将纤维吸收剂与粘结剂溶液混合并搅拌至纤维均匀分散，制得流延浆料；采用一维铁基金属磁性纤维作为纤维吸收剂；（3）以聚对苯二甲酸乙二醇酯膜作为基底，将流延浆料均匀涂覆在基底上，形成流延湿膜；在流延湿膜的流延方向上施加静态磁场进行辅助纤维取向，直至粘结剂溶剂挥发干，制得流延膜；（4）将多层流延膜进行叠层热压，获得电磁各向异性噪声抑制膜。
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- 本发明提供一种层叠体，其特征在于，是层叠树脂层(I)与第二层(II)而成的层叠体，上述树脂层(I)由含有无机微粒复合体(M)的树脂组合物构成，上述无机微粒复合体(M)是聚硅氧烷链段(a1)与乙烯基系聚合物链段(a2)介由通式(4)表示的键进行键合而成的复合树脂(A)与无机微粒(m)在上述聚硅氧烷链段(a1)介由硅氧烷键进行键合而成的，其中，上述聚硅氧烷链段(a1)具有通式(1)和/或通式(2)表示的结构单元以及硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基。
- 层叠体-201780068151.2
- 中道明希;小糸直希;畠中优介;滨威史 - 富士胶片株式会社
- 2017-10-26 - 2019-06-25 - B32B27/00
- 本发明提供一种层叠体，该层叠体具有基材和设置于上述基材上的至少一部分上的防雾层，上述防雾层含有硅氧烷粘合剂、二氧化硅粒子及吸水性有机高分子，上述防雾层具有上述二氧化硅粒子沉积而成的结构，且在防雾层表面具有由上述二氧化硅粒子产生的凹凸结构，且在防雾层内部具有空隙，上述防雾层的膜密度为0.80g/cm3以上且1.40g/cm3以下，上述防雾层的膜厚超过1μm且10μm以下。
- 装饰材料-201780067133.2
- 东川荣一 - 凸版印刷株式会社
- 2017-11-02 - 2019-06-21 - B32B27/00
- 提供一种设计性和耐擦伤性优异的装饰材料。第1、第2光泽调整层(5、6)当中的光泽相对较低的光泽调整层中含有平均粒径为6.0μm以上15.0μm以下的消光剂。也就是说，将光泽相对较低的光泽调整层即耐擦伤性容易变差的光泽调整层中的消光剂的平均粒径设为使光泽调整层具有优异的耐擦伤性和设计性的最优选的范围。由此，能够提高整个装饰材料(1)的耐擦伤性和设计性，并能够提供耐擦伤性和设计性优异的装饰材料(1)。
- 包含聚酰亚胺膜和硬涂层的层积体-201780069665.X
- 冈卓也;中川美晴;久野信治 - 宇部兴产株式会社
- 2017-11-10 - 2019-06-21 - B32B27/00
- 本发明涉及一种层积体，其包含含有聚酰亚胺的膜与硬涂层，在上述聚酰亚胺中，下述化学式(2‑1)所表示的重复单元和/或下述化学式(2‑2)所表示的重复单元的总含量相对于全部重复单元为50摩尔％以上。
- 专利分类
