[发明专利]一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置有效
| 申请号： | 201510385688.4 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN104944793B | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 周永文;范亚军;梁健威 | 申请（专利权）人： | 中山市格兰特实业有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/09 | 分类号： | C03C17/09 |
| 代理公司： | 中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙)44327 | 代理人： | 杨连华,陈玉琼 |
| 地址： | 528400 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括底架，底架上架设有用于移转玻璃的输送装置，其技术方案的要点是底架上还设有用于在真空状态下对玻璃表面进行连续镀膜的磁控溅射镀膜机构，磁控溅射镀膜机构包括架设在输送装置上的溅射底架，溅射底架上设有溅射靶材，溅射底架上位于溅射靶材和输送装置之间设有溅射范围控制装置，溅射范围控制装置包括能通过调节溅射缝隙宽度控制溅射靶材溅射到玻璃上的镀膜厚度的第一活动挡板。本发明提供一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，利用溅射范围控制装置，来调整溅射靶材下部的溅射缝隙宽度，使得单一生产线能满足多种规格镀膜玻璃生产，提高了效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可调 溅射 范围 磁控溅射 玻璃 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种可调节挡板缝隙宽度的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括底架(1)，所述底架(1)上架设有用于移转玻璃的输送装置(2)，所述底架(1)上还设有用于在真空状态下对玻璃表面进行连续镀膜的磁控溅射镀膜机构(3)，所述磁控溅射镀膜机构(3)包括架设在所述输送装置(2)上的溅射底架(31)，所述溅射底架(31)上设有溅射靶材(32)，其特征在于：所述溅射底架(31)上位于所述溅射靶材(32)和输送装置(2)之间设有溅射范围控制装置(33)，所述溅射范围控制装置(33)包括能通过调节溅射缝隙宽度控制所述溅射靶材(32)溅射到玻璃上的镀膜厚度的第一活动挡板(331)，所述溅射范围控制装置(33)还包括推动所述第一活动挡板(331)移动的螺杆(332)和驱动所述螺杆(332)转动驱动电机(333)，所述第一活动挡板(331)通过第一螺杆滑块(334)与所述螺杆(332)连接，所述溅射范围控制装置(33)还包括移动方向与所述第一活动挡板(331)相反的第二活动挡板(330)，所述第二活动挡板(330)上连接有当所述螺杆(332)转动时能带动所述第二活动挡板(330)沿所述第一活动挡板(331)反方向移动的第二螺杆滑块(335)。
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