[发明专利]一种高性能铁磁性溅射靶材在审
| 申请号： | 201510598536.2 | 申请日： | 2015-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN105154836A | 公开（公告）日： | 2015-12-16 |
| 发明（设计）人： | 罗俊锋;徐国进;万小勇;李勇军;丁照崇;何金江;熊晓东;王兴权;曹惠 | 申请（专利权）人： | 有研亿金新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青;熊国裕 |
| 地址： | 102200*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高性能铁磁性溅射靶材，该靶材的溅射面包括主溅射区、次溅射区和非溅射区，所述靶材的次溅射区相对于主溅射区减薄，所述次溅射区的边缘与所述主溅射区之间设有斜坡状过渡区，该过渡区在其与主溅射区及次溅射区的拐点位置均引入倒角。本发明通过减小靶材次溅射区的厚度，提高铁磁性溅射靶材表面磁场分布的均匀性，并减弱主溅射区的离子束聚集现象，提高了铁磁性靶材的溅射性能。通过本发明中的铁磁性溅射靶材制备的薄膜均匀性好，使用寿命长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 性能 铁磁性 溅射 | ||
【主权项】：
一种高性能铁磁性溅射靶材，该靶材的溅射面包括主溅射区、次溅射区和非溅射区，其特征在于，所述靶材的次溅射区相对于主溅射区减薄，所述次溅射区的边缘与所述主溅射区之间设有斜坡状过渡区，该过渡区在其与主溅射区及次溅射区的拐点位置均引入倒角。
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