[发明专利]溅射靶和溅射方法在审
申请号: | 201811008466.0 | 申请日: | 2012-06-14 |
公开(公告)号: | CN109097746A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 罗纳德·M·帕克;罗伯特·T·罗兹比金 | 申请(专利权)人: | 唯景公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 章蕾 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本申请涉及溅射靶和溅射方法。特定而言,描述溅射靶和对于高度均匀的溅射沉积使用常规溅射靶以及本文中描述的溅射靶的溅射方法。 | ||
搜索关键词: | 溅射靶 溅射 溅射沉积 申请 | ||
【主权项】:
1.一种用于溅射沉积电致变色装置的材料层的溅射靶总成,所述溅射靶总成包括:背部板;和在所述背部板上彼此相邻组装的两个或多个平面溅射靶分区,每个溅射靶分区具有溅射表面和相对的表面;和在所述两个或多个平面溅射靶分区的任何邻近分区之间的间隙,其中每个间隙被构造使得在所述背部板和所述平面溅射靶分区的所述溅射表面之间没有视线。
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