[发明专利]用于终点检测的动态或适应性追踪光谱特征

摘要

公开了用于终点检测的动态或适应性追踪光谱特征。一种控制研磨的方法包括以下步骤：研磨基板；以及接收选定光谱特征的识别、具有宽度的波长范围，及该选定光谱特征的特性以在研磨期间进行监视。在研磨该基板的同时测量来自该基板的光的一系列光谱。根据该系列光谱产生该选定光谱特征的该特性的一系列值。对于来自该系列光谱的至少一些光谱而言，基于该光谱特征在用于该系列光谱中的先前光谱的先前波长范围内的位置，产生修改波长范围，在该修改波长范围中搜寻该选定光谱特征，且确定该选定光谱特征的特性的值。

主权项

1.一种化学机械研磨系统，包括：平台，用于固持研磨垫；承载头，用于固持与所述研磨垫接触的基板；原位光学监视系统，配置为在研磨所述基板的同时测量来自所述基板的光的一系列光谱；以及控制器，配置为：接收选定光谱特征的识别、具有宽度的波长范围及所述选定光谱特征的特性，以在研磨期间进行监视，从所述原位光学监视系统接收所述一系列光谱，对于来自所述一系列光谱的至少一些光谱基于所述光谱特征在先前波长范围内的位置产生修改波长范围，所述先前波长范围用于所述一系列光谱中的先前光谱，在所述光谱的所述修改波长范围内搜寻所述光谱特征，以及确定所述选定光谱的特性的值以产生一系列值，以及基于所述一系列值确定研磨终点或对于研磨速率的调整中的至少一个。