[发明专利]可延展柔性无机光电子器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201611182489.4 申请日: 2016-12-19
公开(公告)号: CN106783745B 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 江宇;徐云;宋国峰;白霖;陈华民;王磊 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L27/142;H01L27/144;H01L27/15
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种可延展柔性无机光电子器件及其制备方法,该方法包括以下步骤:在衬底上生长外延材料,并刻蚀形成多个光电子器件单元,在多个光电子器件单元上制备接触电极;在多个光电子器件单元之间的间隙中形成聚合物‑金属‑聚合物互连结构,并通过接触电极形成电学互连;在聚合物‑金属‑聚合物互连结构上旋涂胶膜,并对胶膜选择性显影去除;将上述结构黏附于预拉伸并固定的柔性可延展衬底上,并腐蚀去除生长有外延材料的衬底;去除剩余的胶膜,逐渐释放预拉伸并固定的柔性可延展衬底,形成翘曲结构,完成器件制备。本方法制备的可延展柔性无机光电子器件,同时具有高可延展性和高占空比的特性。
搜索关键词: 延展 柔性 无机 光电子 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种可延展柔性无机光电子器件的制备方法,包括以下步骤:步骤1、在衬底上生长外延材料,并刻蚀形成多个光电子器件单元,在所述多个光电子器件单元上制备接触电极;步骤2、在所述接触电极及多个光电子器件单元之间的间隙中形成聚合物‑金属‑聚合物互连结构;步骤3、在所述聚合物‑金属‑聚合物互连结构上旋涂胶膜,并对所述胶膜选择性显影去除;步骤4、将步骤3制备的结构黏附于预拉伸并固定的柔性可延展衬底上,并腐蚀去除所述生长有外延材料的衬底;步骤5、去除步骤3中剩余的胶膜,逐渐释放所述预拉伸并固定的柔性可延展衬底,形成翘曲结构,完成器件制备。
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