[发明专利]光辐射加热刻蚀装置及方法

摘要

本发明涉及半导体生产和加工领域。本发明揭示了一种光辐射加热刻蚀装置，通过光辐射对待刻蚀基板进行加热以实施刻蚀工艺，该光辐射加热刻蚀装置设置有刻蚀腔，该光辐射加热刻蚀装置还包括光辐射加热器，刻蚀腔内设置有承载台、冷却系统、进气装置和排放装置，承载台用于放置基板，承载台与冷却系统配合设置以使承载台被冷却系统冷却，进气装置供工艺所需的气体进入刻蚀腔；刻蚀腔与排放装置相连以排出气体；光辐射加热器面向基板并与基板的待刻蚀面相对设置，光辐射加热器照射并加热基板的待刻蚀面。另外，本发明还揭示了一种光辐射加热刻蚀方法。采用本发明提供的技术方案，能够消除传统刻蚀工艺中造成的侧边侵蚀现象，并带来其他有益效果。

主权项

一种光辐射加热刻蚀装置，通过光辐射对待刻蚀基板进行加热以实施刻蚀工艺，该光辐射加热刻蚀装置设置有刻蚀腔，其特征在于，所述光辐射加热刻蚀装置还包括光辐射加热器，所述刻蚀腔内设置有承载台、冷却系统、进气装置和排放装置，所述承载台用于放置所述基板，所述承载台与所述冷却系统配合设置以使承载台被冷却系统冷却，所述进气装置供工艺所需的气体进入所述刻蚀腔；所述刻蚀腔与排放装置相连以排出气体；所述光辐射加热器面向所述基板并与所述基板的待刻蚀面相对设置，所述光辐射加热器照射并加热所述基板的待刻蚀面，所述进气装置不阻挡所述光辐射加热器照射所述基板的待刻蚀面。