[发明专利]一种光场光谱成像光谱仪的标定数据处理方法有效
| 申请号： | 201810204484.X | 申请日： | 2018-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN108507674B | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 苏丽娟;袁艳;王世丰;刘宇健 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G01J3/02 | 分类号： | G01J3/02 |
| 代理公司： | 11201 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 张润 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光场光谱成像光谱仪的标定数据处理方法，包括：S1：提供单色均匀面光源，并使所述单色均匀面光源照射光场成像光谱仪；S2：获取光场成像光谱仪在各个滤光片在通光窗口的标定数据，并根据所述标定数据计算谱段响应矩阵；S3：确定辐射响应比例系数，并根据所述辐射响应比例系数和所述谱段响应矩阵得到实际混叠矩阵；S4：提取选定场景的光谱数据，并根据所述选定场景的光谱数据重构立方体。本发明具有如下优点：通过可以提高响应矩阵标定精度，并解解决辐射的不一致性，通过一次曝光可以获取目标完整数据立方体。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱仪 响应矩阵 标定 均匀面光源 比例系数 标定数据 辐射响应 光谱成像 光谱数据 数据处理 光场 矩阵 成像光谱仪 场景 不一致性 光场成像 获取目标 通光窗口 完整数据 一次曝光 滤光片 照射光 混叠 重构 辐射 | ||
【主权项】：
1.一种光场光谱成像光谱仪的标定数据处理方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1：提供单色均匀面光源，并使所述单色均匀面光源照射光场成像光谱仪；/nS2：获取所述光场成像光谱仪在各个滤光片在通光窗口的标定数据，并根据所述标定数据计算谱段响应矩阵；/nS3：确定辐射响应比例系数，并根据所述辐射响应比例系数和所述谱段响应矩阵得到实际混叠矩阵；/nS4：提取选定场景的光谱数据，并根据所述选定场景的光谱数据重构立方体；/n其中，步骤S3进一步包括：/nS3-1：提供所述辐射响应比例系数；/nS3-2：根据所述辐射响应比例系数和所述谱段响应矩阵得到所述实际混叠矩阵的表达式；/nS3-3：利用白光光源和积分球产生均匀面光源照射所述光场多光谱成像仪，并根据所述光场多光谱成像仪后的宏像素采集得到探测器响应，同时采用标准参考光谱辐射仪对输入白光进行监测，得到参考的光谱数据；/nS3-4：根据所述探测器响应、所述参考的光谱数据和所述实际混叠矩阵的表达式得到所述混叠响应矩阵。/n
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