[发明专利]一种多层背电极、薄膜太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201811624601.4 | 申请日: | 2018-12-28 |
公开(公告)号: | CN109768094A | 公开(公告)日: | 2019-05-17 |
发明(设计)人: | 李新连;郭逦达;杨立红 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/0749;H01L31/18 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 陈超 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气压 钼层 背电极膜层 镀制 表面镀 背电极 多层 制备 薄膜太阳能电池 表面粗糙度 光吸收效率 耐高温性能 界面差异 气压保持 反射率 高气压 钼薄膜 基底 陷光 升高 引入 优化 | ||
本发明公开了一种多层背电极的制备方法,包括:在基底的一侧表面镀制第一钼层,镀制过程中控制气压由第一气压值连续下降至第二气压值;在第一钼层的表面镀制第二钼层,镀制过程中控制气压保持在第二气压值;在第二钼层的表面镀制第三钼层,镀制过程中控制气压由第二气压值连续升高至第三气压值。本发明通过在镀制背电极膜层即钼薄膜的不同阶段,使用不同的气压,通过控制气压连续变化,优化了背电极膜层的结构,降低了背电极膜层的应力,同时减少了背电极膜层的界面差异,提高了耐高温性能;通过引入高气压的第三钼层,提高了背电极膜层的表面粗糙度,降低了反射率,实现了表面陷光效应,提高了光吸收效率。
技术领域
本发明涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种多层背电极、薄膜太阳能电池及其制备方法。
背景技术
一般地,具有高转换效率的CIGS薄膜电池通常选用普通钠钙玻璃或柔性材料作为基底,用磁控溅射法在其上沉积一层Mo薄膜作为背电极层。大量研究结果表明,磁控溅射制备Mo薄膜时,溅射气压极大地影响了薄膜的性质,通常,在高气压下制备的薄膜疏松多孔,电阻率较高但附着力优异,同时薄膜呈张应力;而在低气压下制备的薄膜致密,导电性好但附着力较差,通常呈压缩应力。
现有技术中通常采用“高气压/低气压”的双层背电极结构,但是,该双层结构的背电极结构存在如下缺陷:
1、因低气压钼层较厚(>300nm),通常会在背电极膜层中引入较大的残余应力。
2、在镀制吸收层的高温环境中,背电极膜层将受到热应力作用,导致背电极膜层出现孔洞或开裂等缺陷。
发明内容
(一)发明目的
本发明的目的是提供一种多层背电极、薄膜太阳能电池及其制备方法,该多层背电极的制备方法通过在镀制背电极膜层的不同阶段,使用不同的气压,通过控制气压连续变化,优化了背电极膜层的结构,降低了背电极膜层的应力;同时,在第一钼层和第三钼层的镀制过程中,控制气压连续变化,减少了第一钼层、第三钼层与第二钼层之间的界面差异,提高了背电极膜层的耐高温性能;采用该多层背电极的制备方法制备的背电极膜层,其中第三钼层为高气压层,通过引入高气压的第三钼层作为表面层,提高了背电极膜层的表面粗糙度,降低了反射率,实现了表面陷光效应,提高了光吸收效率。
(二)技术方案
为解决上述问题,本发明的第一方面提供了一种多层背电极的制备方法,包括:在基底的一侧表面镀制第一钼层,镀制过程中控制气压由第一气压值连续下降至第二气压值;在所述第一钼层的表面镀制第二钼层,镀制过程中控制气压保持在第二气压值;在所述第二钼层的表面镀制第三钼层,镀制过程中控制气压由第二气压值连续升高至第三气压值。
进一步,所述第一气压值的范围为1.0-3.0Pa;和/或所述第二气压值的范围为0.05-0.5Pa;和/或所述第三气压值的范围为0.5-3.0Pa。
进一步,所述第一钼层的厚度范围为10-300nm;和/或所述第二钼层的厚度范围为100-500nm;和/或所述第三钼层的厚度范围为0-200nm。
进一步,所述第一钼层、所述第二钼层和所述第三钼层采用磁控溅射法镀制
进一步,所述在基底的一侧表面镀制第一钼层的步骤之前,还包括:清洗所述基底;控制本底真空度至低于预设真空度;对所述基底进行加热烘烤,去除水汽。
进一步,所述预设真空度为5.0E-4Pa。
根据本发明的另一个方面,提供一种多层背电极,采用上述所述的制备方法制备得到,包括:依次层叠设置的第一钼层、第二钼层和第三钼层。
进一步,所述第一钼层的厚度范围为10-300nm;和/或所述第二钼层的厚度范围为100-500nm;和/或所述第三钼层的厚度范围为0-200nm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的