[发明专利]垂直半导体装置在审

专利信息
申请号: 201910276163.5 申请日: 2019-04-08
公开(公告)号: CN110534524A 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 李炅奂;姜昌锡;金容锡;林濬熙;金森宏治 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11526 分类号: H01L27/11526;H01L27/11556;H01L27/11573;H01L27/11582
代理公司: 11286 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 尹淑梅;刘灿强<国际申请>=<国际公布>
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 公开了一种垂直半导体装置,该垂直半导体装置包括其中绝缘图案和导电图案交替且重复地堆叠在基底上的导电图案结构。导电图案结构包括具有阶梯形状的边缘部分。导电图案中的每个导电图案包括与边缘部分中的阶梯的上表面对应的垫区域。垫导电图案被设置为接触垫区域的上表面的一部分。掩模图案设置在垫导电图案的上表面上。接触塞穿透掩模图案以接触垫导电图案。
搜索关键词: 导电图案 上表面 垂直半导体装置 掩模图案 接触垫 阶梯形状 绝缘图案 接触塞 堆叠 基底 穿透 重复
【主权项】:
1.一种垂直半导体装置,所述垂直半导体装置包括:/n基底;/n导电图案结构,在导电图案结构中,绝缘图案和导电图案交替且重复地堆叠在基底上,其中,导电图案结构包括具有阶梯形状的边缘部分,导电图案中的每个导电图案包括具有与边缘部分中的阶梯的上表面对应的上表面的垫区域;/n垫导电图案,接触垫区域的上表面的一部分;/n掩模图案,位于垫导电图案的上表面上;以及/n接触塞,穿透掩模图案以接触垫导电图案。/n
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